Gigaphoton представила систему повернення неону для виробництва чипів
Gigaphoton розробила систему перероблення неону для ArF-лазерів із заявленим рівнем повернення газу 50%.
Японський виробник літографічного обладнання Gigaphoton розробив систему перероблення неону hTGM для ексимерних аргон-фторидних лазерів (ArF), що застосовуються у DUV-літографії. За даними Tom's Hardware, система продемонструвала рівень повернення газу 50%, а компанія розраховує підвищити цей показник завдяки зміні конфігурації.
Менше споживання неону
Gigaphoton стверджує, що один модуль hTGM для ArF-лазера може скоротити споживання неону до 470 кілолітрів на рік. Це має зменшити матеріальні витрати виробників мікросхем та їхню залежність від міжнародних поставок газу.
Неон використовують в ексимерних лазерах для глибокої ультрафіолетової літографії. На літографію припадає близько 70% світового споживання цього газу, особливо у передових DUV-процесах. Водночас EUV-літографія не використовує неон в ексимерних лазерах: у ній застосовують лазер із плазмою олова.
Поставки після 2022 року
До 2022 року Україна постачала до 50% неону, який використовувала напівпровідникова галузь. Після повномасштабного вторгнення Російської Федерації — держави-агресора — в Україну великі українські виробники газу припинили експорт, що викликало занепокоєння щодо стабільності ланцюга постачання чипів.
Після цього Китай, Тайвань і Південна Корея наростили внутрішнє виробництво неону, а окремі виробники мікросхем почали впроваджувати системи його повторного використання на різних етапах виробництва. Перші системи перероблення неону для ексимерних ArF-лазерів Cymer були кваліфіковані наприкінці 2023 року, а Samsung і SK Hynix запровадили таке перероблення у 2024 році.
Конкурентні рішення
Gigaphoton раніше пропонувала повторне використання неону для криптон-фторидних лазерів (KrF), а тепер поширила цю можливість і на ArF-системи. Водночас японська компанія Kanken Techno на виставці SemiCon Taiwan у вересні продемонструвала систему перероблення неону для ексимерних лазерів із заявленим рівнем повернення понад 90%.
У матеріалі зазначається, що перехід частини виробництва на EUV-літографію та розвиток альтернативних технологій у перспективі можуть зменшити потребу галузі в неоні для DUV-лазерів.
